ಹೆಡ್ಪಿ 60%

ಎಚ್‌ಇಡಿಪಿ ಆರ್ಗನೋಫಾಸ್ಫೊರಿಕ್ ಆಸಿಡ್ ತುಕ್ಕು ನಿರೋಧಕವಾಗಿದೆ. ಸ್ಥಿರವಾದ ಚೆಲ್ಯಾಟಿಂಗ್ ಸಂಯುಕ್ತಗಳನ್ನು ರೂಪಿಸಲು ಇದು ಫೆ, ಕ್ಯು ಮತ್ತು n ್ನ್ ಅಯಾನುಗಳೊಂದಿಗೆ ಚೆಲೇಟ್ ಮಾಡಬಹುದು. ಇದು ಈ ಲೋಹಗಳ ಮೇಲೆ ಆಕ್ಸಿಡೀಕರಿಸಿದ ವಸ್ತುಗಳನ್ನು ಕರಗಿಸಬಹುದು'ಮೇಲ್ಮೈಗಳು. ತಾಪಮಾನ 250 ರ ಅಡಿಯಲ್ಲಿ ಅತ್ಯುತ್ತಮ ಪ್ರಮಾಣದ ಮತ್ತು ತುಕ್ಕು ಪ್ರತಿಬಂಧಕ ಪರಿಣಾಮಗಳನ್ನು ಹೆಡ್ಪಿ ತೋರಿಸುತ್ತದೆ℃. ಎಚ್‌ಇಡಿಪಿ ಹೆಚ್ಚಿನ ಪಿಹೆಚ್ ಮೌಲ್ಯದಲ್ಲಿ ಉತ್ತಮ ರಾಸಾಯನಿಕ ಸ್ಥಿರತೆಯನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ, ಹೈಡ್ರೊಲೈಸ್ ಮಾಡಲು ಕಷ್ಟ, ಮತ್ತು ಸಾಮಾನ್ಯ ಬೆಳಕು ಮತ್ತು ಶಾಖದ ಪರಿಸ್ಥಿತಿಗಳಲ್ಲಿ ಕೊಳೆಯುವುದು ಕಷ್ಟ. ಇದರ ಆಮ್ಲ/ಕ್ಷಾರ ಮತ್ತು ಕ್ಲೋರಿನ್ ಆಕ್ಸಿಡೀಕರಣ ಸಹಿಷ್ಣುತೆ ಇತರ ಆರ್ಗನೋಫಾಸ್ಫೊರಿಕ್ ಆಮ್ಲಗಳಿಗಿಂತ (ಉಪ್ಪು) ಉತ್ತಮವಾಗಿರುತ್ತದೆ. ಎಚ್‌ಇಡಿಪಿ ನೀರಿನ ವ್ಯವಸ್ಥೆಯಲ್ಲಿ ಲೋಹದ ಅಯಾನುಗಳೊಂದಿಗೆ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯಿಸಿ ಹೆಕ್ಸಾ-ಎಲಿಮೆಂಟ್ ಚೆಲ್ಯಾಟಿಂಗ್ ಸಂಕೀರ್ಣವನ್ನು ರೂಪಿಸುತ್ತದೆ, ನಿರ್ದಿಷ್ಟವಾಗಿ ಕ್ಯಾಲ್ಸಿಯಂ ಅಯಾನ್ ಇರುತ್ತದೆ. ಆದ್ದರಿಂದ, ಎಚ್‌ಇಡಿಪಿ ಉತ್ತಮ ಆಂಟಿಸ್ಕೇಲ್ ಮತ್ತು ಗೋಚರ ಮಿತಿ ಪರಿಣಾಮಗಳನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ. ಇತರ ನೀರಿನ ಸಂಸ್ಕರಣಾ ರಾಸಾಯನಿಕಗಳೊಂದಿಗೆ ಒಟ್ಟಿಗೆ ನಿರ್ಮಿಸಿದಾಗ, ಇದು ಉತ್ತಮ ಸಿನರ್ಜಿಸ್ಟಿಕ್ ಪರಿಣಾಮಗಳನ್ನು ತೋರಿಸುತ್ತದೆ.

ಹೆಡ್ಪ್ನ ಘನ ಸ್ಥಿತಿ ಸ್ಫಟಿಕ ಪುಡಿ, ಚಳಿಗಾಲದಲ್ಲಿ ಮತ್ತು ಘನೀಕರಿಸುವ ಜಿಲ್ಲೆಗಳಲ್ಲಿ ಬಳಕೆಗೆ ಸೂಕ್ತವಾಗಿದೆ. ಅದರ ಹೆಚ್ಚಿನ ಶುದ್ಧತೆಯ ಕಾರಣ, ಇದನ್ನು ಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನಿಕ್ ಕ್ಷೇತ್ರಗಳಲ್ಲಿ ಸ್ವಚ್ cleaning ಗೊಳಿಸುವ ಏಜೆಂಟ್ ಆಗಿ ಮತ್ತು ದೈನಂದಿನ ರಾಸಾಯನಿಕಗಳಲ್ಲಿ ಸೇರ್ಪಡೆಗಳಾಗಿ ಬಳಸಬಹುದು.